真空熱處理爐的冷卻系統(tǒng)

真空爐生產(chǎn)廠家真空熱處理爐的冷卻方式可分為氣體冷卻和油冷卻和水冷卻

氣體冷卻有兩種，一種是加熱冷卻在同一室進(jìn)行，另一種是加熱式和冷卻室分開

氣冷介質(zhì)有氫、氦和氬等，常用的是99.999%以上的高純氮?dú)?，易被氮化的鈦合金用氫冷卻

油冷必須采用專門的低蒸汽壓真空淬火油；

水冷情況下，冷卻室與加熱室間用真空閥門分隔。

主要依靠輻射傳熱，工作條件較好，但高溫下易揮發(fā)，防止真空放電（低于100V）

鎳鉻和鐵鉻鋁合金在真空中只能用于較低溫度和中度真空范圍，一般使用電壓為220V和380V。

鉬、鉭、鎢在真空中加熱容易揮發(fā)，相應(yīng)的使用溫度降低，一般使用電壓為10--60V。

硅碳棒真空中使用溫度為1400℃，使用電壓為220V和380V ，硅鉬棒真空中1300℃發(fā)生軟化，一般使用電壓為10--60V。

石墨電極真空中超過2400℃會(huì)迅速揮發(fā)